PHASE SHIFT MASK（PSM掩模），， ，， ，通过MOSI层爆发180°的相位差以降低光的衍射作用，， ，， ，从而提高掩模图形区分率
相移掩模手艺优点：镌汰邻近效应，， ，， ，使用光的相关性，， ，， ，抵消部分衍射扩展效应，， ，， ，改变空间光强漫衍，， ，， ，使更多的能量从低频分派到高频上，， ，， ，填补投影物镜通低频阻高频的弱点，， ，， ，提高空间图像的反差，， ，， ，改变像质，， ，， ，使区分率和焦深增大
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